特許

J-GLOBAL ID：200903005251886366

酸化物薄膜の製造方法

発明者： 大喜多 宏隆
出願人/特許権者： ブラザー工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-310750
公開番号（公開出願番号）：特開平10-152796
出願日： 1996年11月21日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 欠陥がなく信頼製の高い酸化物薄膜を、安価かつ簡単な設備によって製造する。【解決手段】 目的酸化物を構成する金属種を含んだ水溶液中に基板と対極を浸し、カソード電解とアノード電解を交互に繰り返すパルス電解を行うことにより、膜の電析とその脱水を行いながら堆積させてゆくことで、乾燥時の膜の収縮による欠陥の発生を防ぐ。

請求項（抜粋）：

導電性材料からなる基板と、導電性を有する対極とを、目的の酸化物を構成する金属種を含んだ水溶液中に浸し電解を行う酸化物薄膜製造方法において、基板をマイナス側にして電流を通電する電解処理を、所定の休止期間をはさんで繰り返し行うことを特徴とする酸化物薄膜の製造方法。