特許

J-GLOBAL ID：200903005269560549

空間光変調素子の製造方法

発明者： 滝沢 國治 ,  菊池 宏 ,  大杉 幸久 ,  丹下 正次 ,  本多 昭彦
出願人/特許権者： 日本放送協会 ,  日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-094890
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265051
出願日： 1992年03月23日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 光導電性結晶からなる光導電層を薄くできるようにし、これにより空間光変調素子の空間解像度を飛躍的に向上させることができるような、空間光変調素子の製造方法を提供することである。【構成】 ガラス基板2Aの透明電極膜3A側に光導電性結晶板を接着する。次いで、この光導電性結晶板を研削加工及び研磨加工して光導電層1Aを形成する。光導電層1A上に、遮光層5、誘電体多層膜6を設ける。ガラス基板2Aと2Bとの間にスペーサを含むシール材7を固定し、シール材7の内側に液晶材料を流し込んで光変調層8を形成する。ガラス基板2Aを構成する光学ガラスの熱膨張係数と、光導電性結晶板を構成する結晶の熱膨張係数との差を、40×10-7/°C以下とする。

請求項（抜粋）：

一方に透明電極膜が設けられたガラス基板を準備し、このガラス基板を構成する光学ガラスとの熱膨張係数の差が40×10-7/°C以下である結晶からなる光導電性結晶板を、前記ガラス基板の前記透明電極膜側に接着し、この光導電性結晶板を研削加工及び研磨加工して光導電層を形成し、次いでこの光導電層上に少なくとも光変調層と他方の透明電極膜とを設けることを特徴とする、空間光変調素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/137 ,  G02F 1/1335

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-110609
  
• 特開昭50-108975
  
• 特開昭57-005028