特許

J-GLOBAL ID：200903005277887778

位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 大沢 大 ,  千徳 孝一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-210389
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031031
出願日： 1998年07月09日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】 マスクとウエハとの相対的位置決めを高精度に行うことのできる位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 第1物体面上と第2物体面上に各々物理光学素子を形成し、このうち一方の物理光学素子に投光手段から光を入射させたときに生ずる回折光を他方の物理光学素子に入射させ、該他方の物理光学素子により生ずる回折光の所定面上における位置情報を検出手段により検出することにより、該第1物体と第2物体との相対的な位置検出を行う際、該投光手段は波長の異なった複数の光束を放射する波長可変光源を有していること。

請求項（抜粋）：

第1物体面上と第2物体面上に各々物理光学素子を形成し、このうち一方の物理光学素子に投光手段から光を入射させたときに生ずる回折光を他方の物理光学素子に入射させ、該他方の物理光学素子により生ずる回折光の所定面上における位置情報を検出手段により検出することにより、該第1物体と第2物体との相対的な位置検出を行う際、該投光手段は波長の異なった複数の光束を放射する波長可変光源を有していることを特徴とする位置検出装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 522 D ,  G01B 11/00 G ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 F

Fターム (23件)：

2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD02 ,  2F065FF01 ,  2F065FF48 ,  2F065GG04 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065GG23 ,  2F065GG25 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL43 ,  2F065NN06 ,  2F065NN08 ,  2F065PP12 ,  5F046CA07 ,  5F046DB05 ,  5F046ED01 ,  5F046FA06