特許
J-GLOBAL ID：200903005278737702
回折光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-067262
公開番号（公開出願番号）：特開平10-246808
出願日： 1997年03月05日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：
【要約】【課題】 回折光学素子を高精度にかつ効率的に製作する。【解決手段】 レジスト11を塗布した基板Wをベークした後に、露光装置の回転ステージ10に固定し、回転させながら第1の高エネルギ線E1のi線で斜め方向から最外周のブレーズド角に合わせて露光する。この露光された領域A1は高エネルギ線E1に感光してアルカリ溶液化する。次に、斜めに露光した範囲の内、最も内側の領域A2を第2の高エネルギ線E2のKrFエキシマレーザー光を用いて上方から露光する。この領域A2はKrF露光によってトリフェニルスルホニウムトリフレートから酸が発生し、ブロモフェノールブルーの吸収帯がi線領域にシフトし、i線の透過率が低下する。
請求項（抜粋）：
光学基板上にレジストを塗布する工程と、該光学基板を回転させながら第1の高エネルギ線を斜方から任意の角度で照射する工程と、前記光学基板を回転させながら第2の高エネルギ線を上方から垂直に照射する工程と、現像してレジストパターンを作製する工程と、ドライエッチングによりレジストパターンを前記光学基板に転写する工程とにより製造することを特徴とする回折光学素子の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/18
, B29D 11/00
, H01L 21/027
, C23F 4/00
G02B 5/18
, B29D 11/00
, C23F 4/00 A
, H01L 21/30 515 D
