特許

J-GLOBAL ID：200903005282031601

位置検出装置

発明者： 北野 博 ,  柳原 政光 ,  小板橋 英樹 ,  奈良 圭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-131779
公開番号（公開出願番号）：特開平9-318317
出願日： 1996年05月27日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】 測定値が基準位置に対して、1周期分以上位相ずれを生じた場合を判定できる位置検出装置を提供する。【解決手段】 本発明によれば、基板ステージ(104)上の基準マーク部材(12)の開口パターン(10a、10b)から照明光(14a、14b)を投影光学系を介してレチクル(102)の裏面に照射し、レチクル上のアライメントマーク(16)の光透過パターン(18a、18b)を透過したアライメント光の光強度パターンの変化から、基準位置に対する測定値の差を位相差として求めるに際して、測定して求めた波形中心を中心とする1周期分の波形の振幅をチェックして、その振幅が全波形信号中最大でなければ、測定値が基準位置に対して1周期分ずれたと判定し、エラー処理または補正処理を行う。その結果、アライメントの精度および信頼性が向上する。

請求項１：

二次元移動可能な基板ステージと、所定のパターンが形成されたマスクと、前記マスクに露光光を照射してそのパターンの像を前記基板ステージに載置された基板上に投影露光する投影光学系と、前記基板ステージ上に設けられ照明光を透過可能な開口パターンを有する基準マーク部材と、前記開口パターンに前記照明光を導く照明手段と、前記マスクのパターン面に形成された所定の光透過パターンから成るアライメントマークと、前記照明手段から出射され前記基準マーク部材の前記開口パターンを透過し前記投影光学系を介してさらに前記アライメントマークの前記光透過パターンを透過したアライメント光の強度を検出するセンサと、前記基板ステージの移動に応じて変化する前記アライメント光の強度の周期特性に応じて基準位置に対する測定位置の相対的位置を求める演算手段と、を備えた位置検出装置において、前記演算手段は、前記センサにより検出された強度信号中最大振幅を有する信号周期を決定する手段を備えていることを特徴とする、位置検出装置。

IPC (4件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G01B 11/00 C ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 522 Z ,  H01L 21/30 525 F ,  H01L 21/30 525 D ,  H01L 21/30 525 W