特許
J-GLOBAL ID：200903005294311278
アルミニウムターゲットおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-319697
公開番号（公開出願番号）：特開平6-158307
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】Siおよび/またはCuの含有量が0.5〜3.0重量%のような高い範囲においても、マグネトロンスパッタリング装置で用いることができ、ウエハー上の膜厚分布の平坦化に適したアルミニウムターゲットとその製造方法を提供する。【構成】高純度アルミニウムにSiおよび/またはCuの元素を合計で0.5〜3.0重量%添加した合金の、結晶面のX線強度比(100)/(110)が1.4〜2であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
純度99.9%以上のアルミニウムに、Siおよび/またはCuの元素を合計で0.5〜3.0重量%添加した合金の、結晶面のX線強度比(100)/(110)が1.4〜2であることを特徴とするアルミニウムターゲット。
IPC (2件)：
引用特許：
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