特許

J-GLOBAL ID：200903005308388910

X線照射装置

発明者： 藤崎 久雄 ,  杉崎 克己 ,  永田 浩
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-315147
公開番号（公開出願番号）：特開平7-167997
出願日： 1993年12月15日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 被照射物体に対して高強度のX線を均一に照射することを可能にする。【構成】 放物線Prの一部がなす線分Lsを、この放物線Prの焦点fを通りかつ放物線Prの主軸Xに対して線分Ls側に傾斜した軸線Aの周りに回転して得られる回転曲面の内周面Fiを反射面とする集光鏡を設け、焦点fの位置から集光鏡の内周面へ向けてX線Lxを放射する。

請求項（抜粋）：

放物線の一部がなす線分を、前記放物線の焦点を通りかつこの放物線の主軸に対して前記線分側に傾斜した軸線の周りに回転して得られる回転曲面の内周面を反射面とする集光鏡を備え、前記焦点の位置から前記集光鏡の内周面へ向けてX線を放射するX線照射装置。