特許
J-GLOBAL ID：200903005310529424
表面形状センサとその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-222015
公開番号（公開出願番号）：特開2008-045999
出願日： 2006年08月16日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】水分の侵入を防止しながら、被検体の表面の凹凸を感度良く検出することが可能な表面形状センサとその製造方法を提供すること。【解決手段】シリコン基板10と、シリコン基板10の上方に形成された層間絶縁膜40と、層間絶縁膜40の上に形成された第1水分バリア絶縁膜41と、第1水分バリア絶縁膜41の上に形成された検出電極膜44aと、検出電極膜44aの上に形成された第2水分バリア絶縁膜51と、第2水分バリア絶縁膜51の上に形成され、検出電極膜44aの上に窓55aを備えた保護絶縁膜55とを有する表面形状センサによる。【選択図】図21
請求項１：
半導体基板と、
前記半導体基板の上方に形成された層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜の上に形成された第1水分バリア絶縁膜と、
前記第1水分バリア絶縁膜の上に形成された検出電極膜と、
前記検出電極膜の上に形成された第2水分バリア絶縁膜と、
前記第2水分バリア絶縁膜の上に形成され、前記検出電極膜の上に窓を備えた保護絶縁膜と、
を有することを特徴とする表面形状センサ。
IPC (3件)：
G01B 7/28
, G06T 1/00
, A61B 5/117
G01B7/28 A
, G06T1/00 400G
, A61B5/10 322
2F063AA41
, 2F063BA29
, 2F063BB08
, 2F063BD05
, 2F063CA31
, 2F063DA02
, 2F063DA05
, 2F063DD07
, 2F063HA01
, 2F063HA04
, 4C038FF01
, 4C038FG00
, 5B047AA25
, 5B047BB10
出願人引用 (27件)
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審査官引用 (22件)
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