特許

J-GLOBAL ID：200903005310643464

基板洗浄装置

発明者： 玉置 洋之 ,  吉岡 哲也
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-362940
公開番号（公開出願番号）：特開2000-188274
出願日： 1998年12月21日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】 洗浄用ブラシが半導体ウェーハに接触する際の衝撃を低減する。【解決手段】 洗浄作業を行う場合、スピンドルモータ120で半導体ウェーハ100を高速回転し、リンス500で洗浄液を供給する。また、ブラシユニットベース300を旋回し、洗浄用ブラシ200を半導体ウェーハ100の上方に移動させる。次に、電空レギュレータ330及びエアベアリングシリンダ320によってブラシユニットの垂直荷重を0gに設定し、洗浄用ブラシ200を下降させ、洗浄用ブラシ200を半導体ウェーハ100の表面に近接配置した後、ブラシユニットの垂直荷重を0gから20gに段階的に変化させていく。これにより、洗浄用ブラシ200が半導体ウェーハ100の表面に一定の圧力で接触する。この後、洗浄用ブラシ200を半導体ウェーハ100の表面上でスキャンし、洗浄作業を行う。

請求項１：

被洗浄基板の基板面を略水平方向に配置して前記被洗浄基板を旋回する基板駆動ユニットと、前記被洗浄基板の基板面を洗浄する洗浄用スクラブ部材を含むスクラブユニットと、前記被洗浄基板の基板面上に前記スクラブユニットを下降させることにより、被洗浄基板の基板面と洗浄用スクラブ部材とを接触させて基板面の洗浄を行うスクラブ移動ユニットとを有する基板洗浄装置において、前記スクラブ移動ユニットは、前記スクラブユニットの垂直荷重を自動調整可能に支持する支持機構と、前記支持機構による前記スクラブユニットの垂直荷重をフィードフォワード制御によって自動制御する制御機構とを有し、前記洗浄用スクラブ部材を前記被洗浄基板の基板面に接触させる際に、前記スクラブユニットの垂直荷重を減少させて接触させ、接触後に前記スクラブユニットの垂直荷重を増加させて洗浄を行うようにした、ことを特徴とする基板洗浄装置。