特許
J-GLOBAL ID：200903005321305994
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-038941
公開番号（公開出願番号）：特開平9-212819
出願日： 1996年01月31日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】 上下コア及び中間コアによって磁気回路が構成されており、磁気ギャップを挟むコア間に絶縁層が形成された薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 上コア42、下コア14、前部中間コア16、後部中間コア18によって磁気回路を構成する各層が平坦に形成されており、ギャップ層30を挟む磁気コアのうちの下側磁気コア16の後部に絶縁膜20が形成され、この絶縁膜がコア表面が平坦になるように磁気コアに埋め込まれている薄膜ヘッドの製造方法において、中間コア16,18を形成した後にスペーサ溝22を形成する工程を行ない、その後、絶縁膜20を成膜する工程を行なうことにより、中間コア及びスペーサ溝を同一工程で絶縁膜で埋め込むようにした。
請求項（抜粋）：
上コア、下コア、前部中間コア、後部中間コアによって磁気回路を構成する各層が平坦に形成されており、ギャップ層を挟む磁気コアのうちの下側の磁気コア後部に絶縁膜が形成され、前記絶縁膜がコア表面が平坦になるように磁気コアに埋め込まれていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G11B 5/31 A
, G11B 5/31 C
, G11B 5/39
