特許

J-GLOBAL ID：200903005346041916

X線発生装置

発明者： 小島 勇夫 ,  広瀬 秀男
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  株式会社島津製作所
代理人 (2件)： 竹本 松司 (外2名) ,  竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-105499
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299197
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 2波長以上のレーザービームを同一集光点に照射し、X線の発生制御を行う。【解決手段】 X線発生装置1は、異なる波長のレーザービーム7,8を同一集光点に集光させる反射光学系2を用いて、2波長以上のレーザービームをターゲット3の同一集光点に照射する構成とし、照射するレーザービームの波長に応じてプラズマ温度やプラズマ密度を制御し、所定のX線を発生させる。

請求項（抜粋）：

レーザービームの照射によるプラズマによってX線を発生するX線発生装置において、異なる波長のレーザービームを同一集光点に集光させる目的の反射光学系を備え、前記反射光学系によって2波長以上のレーザービームを同一集光点に照射してX線を発生させる、X線発生装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  G21K 5/08

FI (2件)：

H05G 1/00 K ,  G21K 5/08 X

Fターム (6件)：

4C092AA06 ,  4C092AA17 ,  4C092AB21 ,  4C092AB27 ,  4C092AC08 ,  4C092AC09