特許
J-GLOBAL ID：200903005354888596
プラズマ発生方法及び装置並びにプラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085734
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275397
出願日： 1993年03月20日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】[目的]磁場を使わずに低圧下で高密度のプラズマを生成することができるプラズマ発生方法および装置、ならびに高精度で均一な処理を行えるプラズマ処理装置を提供する。[構成]一直線上に直列に並べて配置された複数のアンテナAT0 ,AT1 ,...AT10,...に、高周波電流供給部RF0 ,RF1 ,...RF10,...よりアンテナ配列順に一定の位相角δずつ位相のずれた高周波電流Io sinωt,Io sin(ωt-δ),...,Io sin(ωt-10δ),...がそれぞれ供給されることにより、これらのアンテナAT0 ,AT1 ,...AT10,...の配列方向に沿って電場の疎密波つまり縦波が生成される。この電場の縦波によって形成されるポテンシャルの谷間に電子e- がトラップされ、この電子が気体粒子に衝突することにより、気体が電離して、プラズマが発生する。
請求項（抜粋）：
チャンバの内側または周囲に所定の直線または曲線に沿って各々電界を発生させる複数のアンテナを直列に並べて配置し、前記複数のアンテナに配列順に任意の位相角ずつ位相のずれた高周波電流を流して、前記複数のアンテナの配列方向に電場の縦波を生成し、前記電場の縦波にトラップされた電子によって前記チャンバ内の気体を電離させるプラズマ発生方法。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, H01L 21/302
