フォトレジストの現像方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-056539
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246166
出願日： 1996年03月13日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】フォトレジスト表面における現像液の濡れ性を改善して、欠陥のないレジストパターンを形成し得るフォトレジストの現像方法を提供する。【解決手段】露光終了後で現像実施前のフォトレジスト2に対してプラズマ処理を施すことによってフォトレジスト2の表面を若干粗して親水性に変化させる。次に、このフォトレジスト2上に現像液を供給し、現像液層3を形成してフォトレジスト2の現像処理を行う。

請求項（抜粋）：

露光終了後で現像実施前のフォトレジストに対して酸素プラズマ処理を施すことによって前記フォトレジストの表面を粗して親水性とするプラズマ処理工程と、酸素プラズマ処理が施された前記フォトレジスト上に現像液を供給し現像液層を形成することによってフォトレジストの現像を行う現像工程を有することを特徴とするフォトレジストの現像方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 F , G03F 7/30 501

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