特許
J-GLOBAL ID:200903005365222042
ハロゲン化炭化水素含有ガス処理装置及び処理方法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中濱 泰光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-002417
公開番号(公開出願番号):特開2004-209445
出願日: 2003年01月08日
公開日(公表日): 2004年07月29日
要約:
【課題】従来の触媒分解法における問題を解決し、大量処理が可能であり、特殊な処理によらず、経済的かつ安定的にハロゲン化炭化水素ガスを含むガスを分解できるハロゲン化炭化水素含有ガス処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】導電性材料からなり、両端が開口した複数のガス流路を有する金属構造体であって、前記ガス流路内に粒状触媒の充填層が形成された触媒保持体と、該触媒保持体の外側に設けられる電磁誘導加熱コイルとを備え、前記ガス流路内にハロゲン化炭化水素含有ガスを導入するようにしたことを特徴とするハロゲン化炭化水素含有ガス処理装置を用いる。金属構造体の材質が高Ni含有ステンレス鋼であり、触媒がWおよびTiの元素を含み、且つPt、Pd、Au、RhおよびNiからなる元素群から選択される少なくとも1種の元素を含み、触媒の比表面積が50m2/g以上であることが好ましい。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
導電性材料からなり、両端が開口した複数のガス流路を有する金属構造体であって、前記ガス流路内に粒状触媒の充填層が形成された触媒保持体と、該触媒保持体の外側に設けられる電磁誘導加熱コイルとを備え、前記ガス流路内にハロゲン化炭化水素含有ガスを導入するようにしたことを特徴とするハロゲン化炭化水素含有ガス処理装置。
IPC (4件):
B01D53/86
, B01J23/652
, B01J35/10
, H05B6/10
FI (5件):
B01D53/36 G
, B01J35/10 301F
, B01J35/10 301J
, H05B6/10 301
, B01J23/64 103A
Fターム (49件):
3K059AA08
, 3K059AB23
, 3K059AB28
, 3K059AC32
, 4D048AA11
, 4D048AB01
, 4D048AB03
, 4D048BA07X
, 4D048BA27X
, 4D048BA30X
, 4D048BA31Y
, 4D048BA33Y
, 4D048BA34Y
, 4D048BA38Y
, 4D048BA41X
, 4D048BB01
, 4D048BB17
, 4D048CA07
, 4D048CC53
, 4D048EA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04B
, 4G069BB04B
, 4G069BC33A
, 4G069BC50A
, 4G069BC60A
, 4G069BC60B
, 4G069BC68A
, 4G069BC71A
, 4G069BC72A
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069CA02
, 4G069CA07
, 4G069CA10
, 4G069CA19
, 4G069DA06
, 4G069EA02X
, 4G069EA02Y
, 4G069EC02X
, 4G069EC02Y
, 4G069EC03X
, 4G069EC04X
, 4G069EC05X
, 4G069FA01
, 4G069FB04
, 4G069FB15
, 4G069FB30
, 4G069FB67
前のページに戻る