特許

J-GLOBAL ID：200903005372564269

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  河邉 保雅
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-109500
公開番号（公開出願番号）：特開2003-302763
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決されたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、具体的には、エッジラフネス、耐エッチング性及び露光のラチチュードの優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 (A)光酸発生剤、(B)脂環型酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する樹脂、及び(C)炭素数7〜15の脂肪族環状炭化水素基とアルコール性水酸基とを有するアルコール化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)光酸発生剤、(B)脂環型酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する樹脂、及び(C)炭素数7〜15の脂肪族環状炭化水素基とアルコール性水酸基とを有するアルコール化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (37件)：

2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC12P ,  4J100BC12R ,  4J100BC12S ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100HA08 ,  4J100JA38