特許
J-GLOBAL ID：200903005377692311
有機薄膜形成用基板及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122244
公開番号（公開出願番号）：特開平6-272054
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】【構成】 基板をオゾン水中に浸漬し、基板表面に酸化膜を形成することによって有機薄膜形成用基板を製造する。このときオゾン水の濃度は8重量%以上とすることが好ましい。【効果】 導電性,剥離性,機械強度に優れた有機薄膜形成用基板が短時間に低コストで製造できる。
請求項（抜粋）：
基板表面にオゾン水中に浸漬することによって形成された酸化膜を有してなる有機薄膜形成用基板。
IPC (3件)：
C23C 22/68
, B32B 15/04
, H05K 3/44
