特許

J-GLOBAL ID：200903005381688523

半導体ウエハの検査装置

発明者： 荒井 正敏 ,  坂井 誠
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-003546
公開番号（公開出願番号）：特開2001-194321
出願日： 2000年01月12日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 異なる焦点位置にある位置合わせマークを、短い測定時間で高精度で測定できる半導体ウエハの検査装置の実現。【解決手段】 第1の位置合わせマークを有する第1のプロセス層12と、第2の位置合わせマークを有する第2のプロセス層13とが形成された半導体ウエハ100の表面の光学像を形成する半導体ウエハの検査装置であって、半導体ウエハの表面の光学像を形成し、波長により焦点位置が異なる共焦点光学系44,45 と、広い波長範囲を有する前記共焦点光学系の光源41とを備える。

請求項（抜粋）：

第1の位置合わせマークを有する第1の層と、第2の位置合わせマークを有する第2の層とが形成された半導体ウエハの表面の光学像を形成する半導体ウエハの検査装置であって、前記半導体ウエハの表面の光学像を形成し、波長により焦点位置が異なる共焦点光学系と、広い波長範囲を有する前記共焦点光学系の光源とを備えることを特徴とする半導体ウエハの検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/00 H ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V

Fターム (45件)：

2F065AA17 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB17 ,  2F065BB27 ,  2F065BB28 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG24 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065LL00 ,  2F065LL10 ,  2F065LL30 ,  2F065LL65 ,  2F065MM16 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2G051AA51 ,  2G051AB20 ,  2G051BA08 ,  2G051BB07 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CC07 ,  2G051CC09 ,  2G051CC11 ,  2G051DA08 ,  2G051EA16 ,  2G051EA17 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA20 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB16 ,  4M106DB18 ,  4M106DB19