特許
J-GLOBAL ID：200903005406904315
ポリアリーレン及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 純子 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201954
公開番号（公開出願番号）：特開2001-026634
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【解決課題】 新規なポリマーを提供すること。【解決手段】 下記式(I)又は(II)で示される繰り返し単位を有するポリアリーレン及びその製造方法、並びに、これらのモノマー。【化1】(式中、Ar1及びAr2は、アリーレンであり;R1及びR2は、C1〜C20炭化水素基等であり;A1及びA2は、C1〜C20炭化水素基等であり;nは、2以上の整数である。)
請求項（抜粋）：
下記式(I)又は(II)で示される繰り返し単位を有することを特徴とするポリアリーレン。【化1】(式中、Ar1及びAr2は、それぞれ、互いに独立し、同一又は異なって、置換基を有していてもよく、1〜5個の窒素原子を有していてもよく、4〜18個の炭素原子を有するアリーレンであり;R1及びR2は、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、置換基を有していてもよい、C1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよい、C1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよい、C6〜C20アリールオキシ基、アミン基、水酸基又は式-Si(R3)(R4)(R5)で示される基(式中、R3、R4及びR5は、それぞれ、互いに独立し、同一又は異なって、C1〜C20アルキル基、C6〜C20アリールアルキル基、C1〜C20アルコキシ基、C6〜C20アリールアルキルオキシ基である。)であり、ただし、式(I)で示される繰り返し単位の場合には、R1及びR2は、互いに、酸素原子で中断されていてもよく、置換基を有していてもよい、C4〜C20飽和又は不飽和環を形成してもよく;A1及びA2は、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有していてもよい、C1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよい、C1〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよい、C6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アルキルアリールオキシ基;置換基を有していてもよい、アルコキシカルボニル基;置換基を有していてもよい、C6〜C20アリールオキシカルボニル基;シアノ基(-CN);カルバモイル基(-C(=O)NH2);ハロホルミル基(-C(=O)-X、式中、Xはハロゲン原子を示す。);ホルミル基(-C(=O)-H)であり;nは、2以上の整数である。)
Fターム (8件)：
4J032CA03
, 4J032CA04
, 4J032CA06
, 4J032CA07
, 4J032CB01
, 4J032CE03
, 4J032CG01
, 4J032CG03
