ポジ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-065051
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265436
出願日： 2001年03月08日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下、特にArFエキシマレーザー光の193nmに高透過性を有し、酸発生効率の高い化合物、及び高感度、高解像力を有し、基板との密着性、プロファイルが良好で、且つパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の構造を有する酸発生剤、及び、その酸発生剤と脂環式基と酸分解性基を有し、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(I)で表される化合物。【化1】式(I)中、R1及びR2は、同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。R3及びR4は、同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Yは-SO-R5、-SO2-R5、-SO3-R6、-SO2-N(R7)(R8)、-N(R7)-SO2-R5、-CO-N(R7)(R8)、-N(R7)-CO-R5、-CN、-NO2又はハロゲン原子を表す。R5及びR6は、同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。R7及びR8は、同じでも異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシ基、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基又はアシル基を表す。またR1〜R4及びYの内の2つが結合し、環を形成してもよい。X-はスルホン酸のアニオンを表す。

IPC (9件)：

C07C381/12 , C07D333/46 , C07D409/06 , C08K 5/36 , C08L 33/04 , C08L101/02 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (9件)：

C07C381/12 , C07D333/46 , C07D409/06 , C08K 5/36 , C08L 33/04 , C08L101/02 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (32件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4C063AA01 , 4C063BB03 , 4C063CC92 , 4C063DD07 , 4C063EE05 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB76 , 4J002AA031 , 4J002BG021 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002EV296 , 4J002EV306 , 4J002FD206 , 4J002GP03

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