特許

J-GLOBAL ID：200903005427268389

メンブレンマスク及びその製造方法

発明者： 姜 帥現
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-208059
公開番号（公開出願番号）：特開2000-039704
出願日： 1998年07月23日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】イオンプロジェクションリソグラフィに使用されるメンブレンマスクにおいて、転写するパターンの制限が存在しない。【解決手段】メンブレンマスクは、メンブレン10とメンブレン10を保持する保持フレーム13とから構成されている。そして、メンブレン10は、イオンビームが透過する単結晶領域11と、イオンビームが遮蔽されるアモルファス領域12とから構成されている。

請求項（抜粋）：

イオンビームの透過領域と遮蔽領域とが形成されたメンブレンと、このメンブレンを保持する保持フレームとを具備し、イオンプロジェクションリソグラフィに用いられるメンブレンマスクにおいて、前記透過領域は単結晶であり、前記遮蔽領域はアモルファスであることを特徴とするメンブレンマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/16 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/16 Z ,  G03F 1/08 G ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (7件)：

2H095BA08 ,  2H095BB01 ,  2H095BB09 ,  2H095BB15 ,  2H095BC01 ,  2H095BC05 ,  2H095BC30