特許

J-GLOBAL ID：200903005440917981

蒸気発生装置

発明者： 杉本 賢司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-177200
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045893
出願日： 1994年07月28日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 基板処理部に蒸気を供給する蒸気発生装置において、装置の占有容積を小さくする。【構成】 蒸気発生装置11は、イソプロピルアルコール(IPA)を加熱して蒸気を発生し、発生した蒸気を処理部10に供給するための装置であって、加熱部42と蒸気発生部43a〜43cと蒸気供給部とを備えている。加熱部42は、IPAを貯留しかつ加熱する加熱槽51を有している。蒸気発生部43a〜43cは、加熱部42から加熱IPAを受けてその蒸気を発生するオーバーフロー槽53a〜53cと、オーバーフロー槽53a〜53cからオーバーフローしたIPAを加熱部42に戻すオーバーフロー液受け槽54a〜54cとを有している。蒸気供給部は、蒸気発生部43a〜43cで発生した蒸気を不活性ガスによって処理部10に供給する。

請求項（抜粋）：

基板処理部に供給する蒸気を発生させるための蒸気発生装置であって、前記液体を貯留する貯留部と、前記貯留部から前記液体を受けて蒸気を発生するオーバーフロー槽と、前記オーバーフロー槽からオーバーフローした液体を前記貯留部に戻す戻し部とを有し、前記貯留部上に積層配置された蒸気発生部と、前記蒸気発生部で発生した蒸気を前記基板処理部に供給する蒸気供給部と、を備えた蒸気発生装置。