特許
J-GLOBAL ID:200903005443548456
エツジ検出方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 長七 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-341356
公開番号(公開出願番号):特開平5-081430
出願日: 1991年12月24日
公開日(公表日): 1993年04月02日
要約:
【要約】【目的】高速且つ安定にエッジを検出する。【構成】2つの交差するワーク11の画像を撮像する。上記画像上のワーク11を横切り、且つその幅よりも大きい領域に複数のマスク121 〜124 を設定する。その光量が最大のマスク12を始点とする。この始点から少なくとも一方側へ検索し、微分値がしきい値以上である点を求める。この点を交差する一方のワーク11のエッジとする。このエッジから外側に複数の画素領域を含む大きさの複数のマスク13を設定する。上記エッジに沿って所定の方向コードをもつ画素があるしきい値を越える位置までマスク13を移動させる。この画素の連なりを他方のワーク11のエッジとする。
請求項(抜粋):
2つの交差するワークのエッジを検出するエッジ検出方法であって、2つの交差するワークの画像を撮像し、上記画像上のワークを横切り、且つその幅よりも大きい領域に複数のマスクを設定し、その光量が最大のマスクを始点として少なくとも一方側へ検索し、微分値がしきい値以上である点を求め、これを交差する一方のワークのエッジとし、このエッジから外側に複数の画素領域を含む大きさの複数のマスクを設定し、上記エッジに沿って所定の方向コードをもつ画素があるしきい値を越える位置までマスクを移動させ、この画素の連なりを他方のワークのエッジとして成ることを特徴とするエッジ検出方法。
IPC (3件):
G06F 15/70 340
, G06F 7/544
, G06F 15/62 400
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