特許
J-GLOBAL ID：200903005445934973
光学装置及びその光学装置を具えた情報面を走査する装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-348913
公開番号（公開出願番号）：特開平5-328049
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：
【要約】【目的】 望ましくないフィードバックの有害な影響が大幅に低減され、一方レーザビームが充分に高い強度を有する装置を提供する。【構成】 光学的に書込、読取、検査又は測定する装置に使用するための光学装置7が記載されており、その装置は放射線ビーム11を発生するためのダイオードレーザ8と放射線ビームを集中し且つ案内するための光学システム9とを具えている。ダイオードレーザはパルス化レーザであり、且つフィードバック素子がそのダイオードレーザから特定の距離dにおいて放射線通路内に配設されていて、その素子は適当な反射係数を有しているから、安定化された放射線ビームが得られる。そのビーム方向は波長を調節できるようにすること、及び分散性素子を使用することにより、変えることができる。
請求項１：
放射線ビームを発生するためのダイオードレーザ、及びこの放射線ビームを集中し且つ案内するための光学システムを具えている光学装置において、前記ダイオードレーザがパルス持続期間p及びパルス周期Tにおいて放射線パルスを供給するパルス化レーザであること、及び少なくとも部分的に反射するフィードバック素子が前記ダイオードレーザからほぼ距離dにおいて前記放射線ビームの放射通路内に配置され、該距離dが、d=(c/2)nT-(c/2)ε(p+Δp)の条件を満たし、ここでnは整数であり、cは放射線ビームが通過する媒体内での光の速度であり、ΔpはダイオードレーザにおけるパルスPLの形成時間であって、且つεは0<ε<1を満たす実数であって、且つE(Pr )>E(PLi )によって与えられる条件が、前記放射線パルスが前記ダイオードレーザへ入る瞬時に満たされ、E(PLi )が関連する瞬時において前記ダイオードレーザ内に形成される放射線エネルギーであるように、フィードバック素子により反射された放射線パルスのそれぞれ減少するか又は増大するエネルギーE(Pr )においてこれらの限界内で増大又は減少すること、を特徴とする光学装置。
IPC (4件)：
H04N 1/04 104
, G11B 7/135
, H04N 1/23 103
, G01J 1/04
