パターン位置測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052415
公開番号（公開出願番号）：特開平5-256621
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：

【要約】【目的】ゴミ等の異物付着による試料の異常な姿勢状態に起因した測定誤差を排除可能なパターン位置測定装置を提供する。【構成】表面に所定のパターンが形成された試料を載置し、略水平面を移動可能なステージ5と;前記試料表面の複数の位置で、前記試料表面の前記水平面からの高さを検出する高さ検出手段11と;前記高さ検出手段により検出された高さと予め設定されている基準の高さとの差が、所定の許容範囲内か否かを判断する比較手段12とを具備する。

請求項（抜粋）：

表面に所定のパターンが形成された試料を載置し、略水平面を移動可能なステージと、前記試料表面の複数の位置で、前記試料表面の前記水平面からの高さを検出する高さ検出手段と、前記高さ検出手段により検出された高さと予め設定されている基準の高さとの差が、所定の許容範囲内か否かを判断する比較手段と、を具備したことを特徴とするパターン位置測定装置。

IPC (4件)：

G01B 11/24 , G01B 11/00 , G06F 15/62 405 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-013908
特開平1-277192
特開昭57-087582

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