特許
J-GLOBAL ID：200903005453268060

露光装置、デバイス製造方法およびマーク位置検出装置

発明者：
片山 尚志

片山 尚志 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-364753
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186157
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：
【要約】【課題】 基板面が平らでない場合でも、計測精度を著しく損なうことなく計測のスループットを向上させる。【解決手段】 露光装置STにより重ね露光することにより基板WFの各ショット位置に形成したずれ量計測マークに基づいて重ね露光時のXおよびY方向のアライメント誤差を検出する際、最初のショットのずれ量計測マークについては、それをZ方向位置を変位させつつ撮像手段LSY;OEにより撮像し、その画像信号を処理して撮像手段のXおよびY方向のフォーカス位置およびその差を求め、その各方向のフォーカス位置において再度そのずれ量計測マークを撮像し、その各方向の画像信号を処理してそのずれ量計測マークにおけるXおよびY方向の重ね誤差を検出し、他の各ショットのずれ量計測マークについてはX、Y方向のうちの一方向のフォーカス位置を同様にして求め、そのフォーカス位置において前記一方向について重ね誤差を同様にして検出し、そして前記一方向のフォーカス位置から前記フォーカス位置の差分だけZ方向に移動した位置において他の方向について重ね誤差を同様にして検出する。
請求項（抜粋）：
X、YおよびZ方向に移動可能なステージ装置と、このステージ装置に保持された基板上に原板のパターンを投影して露光する露光手段と、前記基板上のアライメントマークを撮像する撮像手段と、前記ステージ装置を駆動して前記撮像手段により前記アライメントマークの画像信号を得、この画像信号に基づいて前記アライメントマークの位置を検出し、この検出結果に基づいて前記ステージ装置により前記基板を各ショット位置に位置決めすべくステップ移動させながら前記露光手段により前記基板上の各ショット位置に露光を行う制御手段とを備えた露光装置において、前記制御手段は、この露光装置により重ね露光することにより前記基板の各ショット位置に形成したずれ量計測マークに基づいて重ね露光時のXおよびY方向のアライメント誤差を検出するものであり、その際、最初のショットのずれ量計測マークについては、それをZ方向位置を変位させつつ前記撮像手段により撮像し、その画像信号を処理して前記撮像手段のXおよびY方向のフォーカス位置およびその差を求め、その各方向のフォーカス位置において再度そのずれ量計測マークを撮像し、その各方向の画像信号を処理してそのずれ量計測マークにおけるXおよびY方向の重ね誤差を検出し、他の各ショットのずれ量計測マークについてはX、Y方向のうちの一方向のフォーカス位置を同様にして求め、そのフォーカス位置において前記一方向について重ね誤差を同様にして検出し、そして前記一方向のフォーカス位置から前記フォーカス位置の差分だけZ方向に移動した位置において他の方向について重ね誤差を同様にして検出するものであることを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22
FI (5件)：
H01L 21/30 520 A ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 525 W
引用特許：
出願人引用 (3件)

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