特許
J-GLOBAL ID：200903005459047244
プロセスモニター用電界効果トランジスタ
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-004414
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260512
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【目的】 電極間隔を工程中に容易に非破壊で測定することができるプロセスモニター用の電界効果トランジスタを提供する。【構成】 半導体基板上に近接して二個の電界効果トランジスタが夫々のソース電極およびドレイン電極をゲート電極の長手方向の線と線対称に、かつゲート電極同士を互いに電気的に独立させて配置されていることを特徴とするプロセスモニター用電界効果トランジスタ。
請求項（抜粋）：
半導体基板上に近接して二個の電界効果トランジスタが夫々のソース電極およびドレイン電極をゲート電極の長手方向の線と線対称に、かつゲート電極同士を互いに電気的に独立させて配置されていることを特徴とするプロセスモニター用電界効果トランジスタ。
IPC (2件)：
H01L 21/338
, H01L 29/812
