特許
J-GLOBAL ID:200903005473489640

レジスト現像装置及びレジスト現像方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-172444
公開番号(公開出願番号):特開平11-024283
出願日: 1997年06月27日
公開日(公表日): 1999年01月29日
要約:
【要約】【課題】 中間リンス液あるいは現像液を最終リンス液で完全に置換して、高い解像度を均一性良く形成するための現像装置及び現像方法の提供。【解決手段】 基板2上のパタンを現像する現像装置において、最終リンス液に高圧力を印可し、ジェット噴射により基板2上に最終リンス液をスプレー状に供給する1個もしくは複数個のノズル6またはオリフィスを有する供給機構を備えたことを特徴とするレジスト現像装置を解決手段とした。また、高圧力が印可された最終リンス液を、1個もしくは複数個のノズル6またはオリフィスからジェット噴射により基板2上にスプレー状に供給する工程を備えることを特徴とするレジスト現像方法を解決手段とした。
請求項(抜粋):
レジストパタンが転写された被加工基板上に、現像液と、最終リンス液または中間リンス液と最終リンス液の2種以上のリンス液を供給して該基板上のパタンを現像する現像装置において、最終リンス液に高圧力を印可し、ジェット噴射により基板上に最終リンス液をスプレー状に供給する1個もしくは複数個のノズルまたはオリフィスを有する供給機構を備えたことを特徴とするレジスト現像装置。
IPC (3件):
G03F 7/30 502 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/30 502 ,  B08B 3/02 F ,  H01L 21/30 569 C

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