特許
J-GLOBAL ID：200903005482818460
光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-032160
公開番号（公開出願番号）：特開平6-250036
出願日： 1993年02月22日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【目的】 容易に製造できる光増幅機能等を持った光導波路の構造及びその製造方法を提供することを目的とする。【構成】 ゾルゲル法により希土類元素をドープして形成した不純物ドープ層8bを、スパッタ法あるいは火炎堆積法により第1及び第2のコア層8a、8cで挟み込むことにより、基板4上に形成するコア部8dの構造を3層の積層構造にしたことを特徴とし、その製造方法としては、第1の工程において、上記基板4上にコア部8dを構成する第1のコア層8aを形成し、この第1のコア層8a上にゾルゲル法により希土類元素をドープして不純物ドープ層8bを形成した後、さらに第2のコア層8cを形成し、第2の工程において、これら基板4上に積層された各層8をエッチングすることでコア部8dを形成し、さらに第3の工程において、エッチングにより3層構造のコア部8dが形成された基板4上に、クラッド部9を形成して製造することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
基板上に機能性物質を含有しない第1のコア層を形成し、該第1のコア層上にゾルゲル法により機能性物質をドープした不純物ドープ層を形成し、さらに該機能性物質を含有しない第2のコア層を順次形成する第1の工程と、前記基板上に積層された各層をエッチングし、コア部を形成する第2の工程と、 前記3層構造のコア部が形成された基板上に、クラッド部を形成する第3の工程を備えた光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
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