特許
J-GLOBAL ID：200903005493375560

投影光学系の製造方法及び調整方法、露光装置及びその製造方法、デバイス製造方法、並びにコンピュータシステム

発明者：
濱谷 正人

濱谷 正人 について

, 
塚越 敏雄

塚越 敏雄 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-023547
公開番号（公開出願番号）：特開2002-324752
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：
【要約】【課題】 製造工程を簡略化できるとともに、光学装置が達成すべき目標を確実に達成する投影光学系の製造方法を提供する。【解決手段】 投影光学系を構成する各光学素子を製造し(ステップ1)、前記各光学素子の面形状を計測し(ステップ2)、投影光学系を組み立てる(ステップ3)。そして、これらのステップ1〜ステップ3と前後して、光学装置が達成すべき目標情報を得、該目標情報に基づいて、前記投影光学系が満足すべき波面収差を規格値として投影光学系の仕様を決定する。そして、投影光学系の波面収差を計測し(ステップ4)、その波面収差の計測結果に基づいて投影光学系の波面が先に決定した仕様を満足するように投影光学系を調整する(ステップ5)。
請求項（抜粋）：
光学装置で用いられる投影光学系の製造方法であって、前記光学装置が達成すべき目標情報を得る第1工程と;前記目標情報に基づいて、前記投影光学系が満足すべき波面収差を規格値として前記投影光学系の仕様を決定する第2工程と;前記仕様を満足するように、前記投影光学系を調整する第3工程と;を含む投影光学系の製造方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G02B 7/28 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02
FI (5件)：
G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 516 A ,  G02B 7/11 M ,  H01L 21/30 502 Z
Fターム (8件)：
2H051AA10 ,  2H051BB11 ,  2H051CC04 ,  2H051CD12 ,  2H051DA07 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DA30
引用特許：
審査官引用 (14件)
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