特許
J-GLOBAL ID：200903005499401229
光導波路グレーティングおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099412
公開番号（公開出願番号）：特開平10-288714
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【課題】 低コストで製造効率のよい基板型の光導波路グレーティングとその製造方法を提供する。さらには、シリコン基板からなる基板型光導波路を用いても、紫外光の照射によって気泡が発生したり、反射光と入射光の干渉が発生することがない基板型の光導波路グレーティングとその製造方法を提供する。【解決手段】 基板型光導波路に紫外光を照射してコア14の屈折率に周期的な変化を形成する光導波路グレーティングの製造方法において、シリコン基板11とクラッド層13との間に高ゲルマニウム層12が設けられた基板型光導波路を用いる。
請求項（抜粋）：
基板型光導波路に紫外光を照射してコアの屈折率に周期的な変化を形成する光導波路グレーティングの製造方法において、シリコン基板とクラッド層との間に高ゲルマニウム層が設けられた基板型光導波路を用いることを特徴とする光導波路グレーティングの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
