特許

J-GLOBAL ID：200903005501330318

表面位置検出装置

発明者： 西村 宏 ,  水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 宮川 貞二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-060049
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239015
出願日： 1997年02月27日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系の合焦の際、下地パターンによるウエハ面の反射率分布の不均一性に起因する誤差を低減する。【解決手段】 ウエハ面Wに対して位置検出用の光を照射する照射系と、ウエハ面Wからの位置検出用の光を受光することによりウエハ面Wにほぼ垂直な方向での位置を検出する位置検出系とを備えた表面位置検出装置において、前記ウエハ面を均一に照明しその光学特性を検出する光学特性検出系と、該光学特性検出系からの検出情報に基づいて、前記位置検出系からのウエハ面Wの位置情報を補正する補正系とを有する表面位置検出装置。光学特性検出系を備えるのでウエハ面Wの光学特性が求まり、また補正系を備えるので、求められた光学特性に関する検出情報に基づいて、ウエハ面Wの位置情報が補正され、正確に合焦できる。

請求項（抜粋）：

被検面に対して位置検出用の光を照射する照射系と、該被検面からの位置検出用の光を受光することにより被検面にほぼ垂直な方向での位置を検出する位置検出系とを備えた表面位置検出装置において;前記被検面の光学特性を検出する光学特性検出系と;該光学特性検出系からの検出情報に基づいて、前記位置検出系からの被検面の位置情報を補正する補正系とを有することを特徴とする;表面位置検出装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01B 11/00 C ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 526 A