特許

J-GLOBAL ID：200903005512682623

エキシマレーザ加工装置

発明者： 佐々木 弘治 ,  川久保 幸雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-236437
公開番号（公開出願番号）：特開平9-080368
出願日： 1995年09月14日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【構成】格子状の反射鏡2を用いてレーザビーム1を帯状ビーム4に分割して大面積TFT-LCD基板5上のTFT部に一度に照射する。【効果】レーザエネルギの利用効率を大幅に向上させる。

請求項（抜粋）：

薄膜半導体素子を用いた液晶ディスプレー基板にレーザ光を照射してアニール加工するエキシマレーザ加工装置において、格子状の反射鏡をレーザ光軸に対して入射角度が零度以外になるように、配置したことを特徴とするエキシマレーザ加工装置。

IPC (6件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/20 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01S 3/00

FI (5件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/20 ,  H01S 3/00 B ,  H01L 29/78 627 G