特許
J-GLOBAL ID:200903005532596022

液晶表示装置およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大岩 増雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-160634
公開番号(公開出願番号):特開平11-352515
出願日: 1998年06月09日
公開日(公表日): 1999年12月24日
要約:
【要約】【課題】 画素最上層構造を有する液晶表示装置において、層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介しての画素電極とドレイン電極との接続抵抗を低くかつ安定化でき、かつ製造工程数や用いるマスク枚数の削減により製造コストの低減を図ることのできる液晶表示装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】 ドレイン電極8を低抵抗金属膜/ITO膜の二層構造とし、層間絶縁膜10のコンタクトホール11により露出したドレイン電極8の上層膜8b(低抵抗金属膜)を層間絶縁膜10をマスクとしてエッチング除去し、画素電極12を構成するITO膜とドレイン電極8の下層膜(ITO膜)をコンタクトホール11を介して接続する。
請求項(抜粋):
透明絶縁性基板と、上記透明絶縁性基板上に形成された制御電極、制御電極配線および保持容量共通配線と、上記制御電極、制御電極配線および保持容量共通配線上に形成された絶縁膜と、上記絶縁膜を介して制御電極上に形成された半導体層と、上記半導体層上に形成され、ITO膜と低抵抗金属膜からなる二層構造を有し、上記半導体層と共に半導体素子を構成する第一の電極、第一の電極配線および第二の電極と、上記第一の電極、第一の電極配線および第二の電極上に形成され、表面が平坦化された透明樹脂からなる層間絶縁膜と、上記層間絶縁膜上に形成され、層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して上記第二の電極のITO膜と電気的に接続された透明導電膜からなる画素電極を有する第一の基板、上記第一の基板と共に液晶材料を挟持する第二の基板、上記保持容量配線と、上記第二の電極の上記層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して上記画素電極と接続されている部分が上記絶縁膜を挟んで対向することにより構成された保持容量を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
IPC (3件):
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335
FI (3件):
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335

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