特許

J-GLOBAL ID：200903005533513651

透過率変調型フォトマスク、およびそれを用いる光学部品の製造方法

発明者： 中務 茂樹 ,  藤沢 克也
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
代理人 (1件)： 杉本 修司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059451
公開番号（公開出願番号）：特開平5-224398
出願日： 1992年02月12日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【目的】 断面形状の異なる種々の回折格子を安価に製造できるフォトマスク、およびこのフォトマスクを用いた光学部品の製造方法を得ること。【構成】 開口部1と遮光部2とが露光時に解像不可能な細かい間隔でもって交互に配置された集合体を、解像可能な間隔でもって配置してフォトマスク3を構成し、その開口部1と遮光部2の面積比を変えることによって開口部1の光線透過率を変化させた。このフォトマスク3を使用すれば、光線透過率の変化に対応した断面形状を有する回折格子のような光学部品を作製できる。

請求項（抜粋）：

露光時に解像不可能な細かい間隔でもって交互に配置された遮光部および開口部の集合体が、解像可能な大きな間隔でもって配置されてなるフォトマスクであって、遮光部および開口部の密度を変えることにより光線透過率を変化させるように構成してなる透過率変調型フォトマスク。