めっき磁性薄膜およびその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-021217
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217744
出願日： 1992年02月06日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】優れた磁気特性が期待される希土類合金薄膜を量産性に優れた電気めっき法により実現する。【構成】 Rイオン(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)、Tイオン(ただし、TはFe、Co、Niの1種以上)と酸素補足剤を含有している非プロトン性溶媒めっき浴から電気めっき法により希土類合金磁性薄膜を形成する。また、ほう水素化物を添加しためっき浴を用いることにより十分なB含有量のR2T14Bを主相とする合金が、また熱処理によりR2T17Nxを主相とする合金めっき膜も作製できBHmax≧10MG Oe以上の特性が得られる。

請求項（抜粋）：