特許

J-GLOBAL ID：200903005547969887

光熱変換型記録材料用塗布液および光熱変換型記録材料

発明者： 中村 秀之 ,  宮宅 一仁 ,  山本 充
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-103997
公開番号（公開出願番号）：特開2001-287468
出願日： 2000年04月05日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】 光熱変換型記録用塗布液中の不純物の含有量を規制することによって、光熱変換色素の分解による光学濃度の低下がない安価な熱転写シートを提供すること。【解決手段】 塗布溶液がNMP(N-メチル-2-ピロリドン)であり、ポリメチン系光熱変換色素を含有することを特徴とする光熱変換型記録材料用塗布液であって、N-メチルスクシイミドの含有量が1600ppm未満、または、5-ヒドロキシNMPの含有量が400ppm未満の溶液であることを特徴とする記録材料用塗布液。

請求項（抜粋）：

塗布溶剤がNMP(N-メチル-2-ピロリドン)であり、ポリメチン系光熱変換色素を含有することを特徴とする光熱変換型記録材料用塗布液であって、N-メチルスクシイミドの含有量が1600ppm未満、または、5-ヒドロキシNMPの含有量が400ppm未満の溶液であることを特徴とする記録材料用塗布液。

IPC (2件)：

B41M 5/40 ,  B41M 5/26

FI (2件)：

B41M 5/26 F ,  B41M 5/26 Q

Fターム (17件)：

2H111AA12 ,  2H111AA26 ,  2H111AA35 ,  2H111BA03 ,  2H111BA07 ,  2H111BA38 ,  2H111BA47 ,  2H111BA48 ,  2H111BA49 ,  2H111BA50 ,  2H111BA53 ,  2H111BA71 ,  2H111BB06 ,  2H111CA03 ,  2H111CA04 ,  2H111CA12 ,  2H111HA14