特許
J-GLOBAL ID:200903005555973850

位置決め方法、液晶モジュールの製造方法、液晶表示器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 外川 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-341896
公開番号(公開出願番号):特開平10-177416
出願日: 1988年01月20日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】【課題】 高精度な位置決めが可能な位置決め方法、この位置決め方法を用いた液晶モジュールの製造方法、および液晶モジュールの製造に用いられる液晶表示器を提供する。【解決手段】 第1ワークと第2ワークとを位置決めする位置決め方法において、前記第1ワークと前記第2ワークとを仮位置決めしたのに基づき、前記第1ワークに設けられた第1位置決め用マークと前記第2ワークに設けられ前記第1位置決め用マークと対で用いられる第2位置決め用マークとを共に同一視野に入れて撮像する撮像工程と、この撮像工程により得られた画像データから前記第1位置決め用マークと前記第2位置決め用マークとの相対位置を求める相対位置算出工程と、前記第1ワークと前記第2ワークとを相対的に移動させて前記仮位置決めし、かつ前記相対位置算出工程で求められた相対位置に基づいて前記第1ワークと前記第2ワークとを相対的に移動させる移動工程とを具備したことを特徴とする位置決め方法。
請求項(抜粋):
第1ワークと第2ワークとを位置決めする位置決め方法において、前記第1ワークに設けられた第1位置決め用マークと前記第2ワークに設けられ前記第1位置決め用マークと対で用いられる第2位置決め用マークとを共に同一視野に入れて撮像する撮像工程と、この撮像工程により得られた画像データから前記第1位置決め用マークと前記第2位置決め用マークとの相対位置を求める相対位置算出工程と、前記相対位置算出工程で求められた相対位置に基づいて前記第1ワークと前記第2ワークとを相対的に移動させる移動工程とを具備したことを特徴とする位置決め方法。
IPC (5件):
G05D 3/12 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00 349 ,  H05K 13/04
FI (5件):
G05D 3/12 K ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00 349 C ,  H05K 13/04 M
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭64-000989
  • 特開昭61-049218
  • 特開昭54-009580
全件表示

前のページに戻る