露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-286492
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140298
出願日： 1992年10月26日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】マスクのパターン像を感光基板上に焼き付ける際の、感光基板上での照度を正確に計測する。【構成】マスクのパターンが転写される感光基板Wを載置して移動可能なステージ3の一部に、当該感光基板Wとほぼ同一の反射特性を有する反射面7を配置する。この反射面7及び当該反射面7内の所定の位置に形成された光透過部Hからなる基準部材に照明光を照射したとき、反射面7内の光透過部Hを通過した照明光を、この基準部材に関してマスクと反対側に設けられた光電検出手段Dによって受光する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光をほぼ均一な照度でマスクに形成されたパターンに照射する照明光学系と、前記パターンが転写される感光基板を載置して移動可能なステージとを有する露光装置において、前記ステージの一部に配置され、前記感光基板とほぼ同一の反射特性を有する反射面と、該反射面内の所定の位置に形成された光透過部とを有する基準部材と、該基準部材に関して前記マスクと反対側に設けられ、前記照明光を前記反射面に照射したときに前記光透過部を通過する前記照明光を受光する光電検出手段とを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-065623
特開平2-244707
特開平3-065623

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