物理的蒸着室の微粒子を減少するためのシールド準備法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-034185
公開番号（公開出願番号）：特開平5-106020
出願日： 1991年02月28日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：

【要約】物理的蒸着工程で使用するシールドを準備する方法において、シールドが、物理的蒸着工程の付着物の付着力を増大するために、スパッタ・エッチング清浄される。スパッタ・エッチング清浄は、拡散の障壁を形成しまた付着物がシールドに付着するのを妨げる汚染物を除去する働きをする。また、スパッタ・エッチング清浄は、非常に微細な粗さを生成する。この粗さにより、付着した界面の不形成を最小限にする核生成個所が増加する。スパッタ・エッチング清浄のほかに、シールドは、ビード・ブラスト処理される。ビード・ブラストにより、シールドの表面は不規則になる。これにより、付着した材料の境界クラックを極微的に助長し、剥離を低減する。

請求項（抜粋）：