特許
J-GLOBAL ID：200903005594702856
真空蒸着方法及び真空蒸着装置、並びにこの真空蒸着方法により製造したELパネル
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
影井 俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-049188
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259598
出願日： 2003年02月26日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】マスク板を接合させたガラス基板を支持部材に固定的に保持させて蒸着を行うに当って、マスク板への着脱を真空内で容易に、しかも確実に行え、しかも膜付けの精度が極めて高くなるようにする。【解決手段】マスク板搭載手段21の磁力吸着部材23により吸着保持されたマスク板13を基板支持台20上のガラス基板10に全面的に密着させ、基板支持台20によりマスク接合基板16を反転させて、真空蒸着チャンバ1内に搬入して、マスク板13に磁力による吸着力を作用させた状態で、真空蒸着が行われる。その後のマスク接合基板16のマスク板13を移載手段に当接させてスク接合基板16を脱着する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
真空蒸着によりガラス基板の表面に所定のパターンとなるように蒸着膜を形成する真空蒸着方法であって、
ガラス基板の蒸着膜形成面を上に向けて所定の位置に配置し、
この蒸着膜形成面に前記パターンを有する磁性金属材からなるマスク板を載置して、このマスク板のほぼ全面をガラス基板の蒸着膜形成面に密着させてマスク接合基板となし、
このマスク接合基板を支持部材に当接させて、この支持部材によってそのガラス基板を介してマスク板を磁力の作用により吸着させ、マスク板が下側に向くように反転させて、蒸着源からこのマスク板を介してガラス基板の蒸着膜形成面に所定パターンの蒸着物質を付着させ、
蒸着後のマスク接合基板を反転させて、マスク板が上向きとした後に磁力の作用を解除する
ことを特徴とする真空蒸着方法。
IPC (4件)：
H05B33/10
, C23C14/04
, H05B33/12
, H05B33/14
H05B33/10
, C23C14/04 A
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029HA04
