特許

J-GLOBAL ID：200903005600529029

データハンドリング、ストレージ及び操作のための方法とシステム

発明者： ウィリス、ジェームス
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (5件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-509743
公開番号（公開出願番号）：特表2005-527983
出願日： 2003年05月28日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

【課題】データハンドリング、ストレージ及び操作のための方法とシステム【解決手段】本願発明は、測定デバイスと、データハンドリング、ストレージ、及び操作の少なくとも一つの備えるコントローラとを備える改善されたデータ収集システムを提供する。本願発明はさらに、データハンドリング、ストレージ及び操作を備えた改善された方法を提供するもので、プロセスリアクタに結合した測定デバイスを使用する第1のデータのセットを測定する工程と、測定デバイスに結合するコントローラを作動させるピーク抽出アルゴリズムを使用し第1の減少されるデータのセットを生成する工程とを備える。ここで第1の減少されたデータのセットは、第1のデータセットのデータボリュームと等しいかより少ないデータボリュームを備える。本願発明の他の実施態様で、第1の減少されたデータセットと第2に減少されたデータセットは、決定され、比較され、プラズマ処理システムの状態と関連され得る。プラズマ処理システムの状態は、終点条件または故障条件を含むことができる。

請求項（抜粋）：

プロセスリアクタと、 データ収集システムであって、 前記プロセスリアクタと結合した測定デバイスと、 前記測定デバイスと結合し、前記測定デバイスから抽出されるデータのハンドリングと、ストレージと、操作とを改良するアルゴリズムとを有するコントローラとを有する前記データ収集システムとを備える改良されたプラズマプロセスシステム。

IPC (3件)：

H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  H05H1/00

FI (3件)：

H01L21/302 103 ,  H01L21/205 ,  H05H1/00 A

Fターム (8件)：

5F004AA06 ,  5F004AA16 ,  5F004CB02 ,  5F004CB05 ,  5F004CB15 ,  5F045AA03 ,  5F045GB08 ,  5F045GB10