特許
J-GLOBAL ID：200903005600713377
イオンビーム照射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-225112
公開番号（公開出願番号）：特開平6-052818
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】[目的] イオンビームの照射される試料の観測量の分布に関する正しい情報を得ること。[構成] 試料9を流れるイオン電流を積分し、所定の電荷量に達する毎にパルスを発生する電荷積分器31と、該電荷積分器31のパルスをカウントし、所定のカウント数に達するとパルスを発生する計数器32とを設け、該計数器32のパルスの発生毎にイオンビームを次の照射部分に移行させるように前記走査電極4に印加する電圧を制御するようにした。
請求項（抜粋）：
イオンビーム供給源と、該イオンビーム供給源からのイオンビームを偏向させる走査電極とを備え、試料の表面の各部に所定の順序で前記イオンビームを照射するようにしたイオンビーム照射装置において、前記試料を流れるイオン電流を積分し、所定の電荷量に達する毎にパルスを発生する電荷積分器と、該電荷積分器のパルスをカウントし、所定のカウント数に達するとパルスを発生する計数器とを設け、該計数器のパルスの発生毎にイオンビームを次の照射部分に移行させるように前記走査電極に印加する電圧を制御するようにしたことを特徴とするイオンビーム照射装置。
IPC (5件)：
H01J 37/252
, G21K 5/04
, H01J 37/04
, H01L 21/027
, G01N 23/225
