回折光学素子及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：澤井敬史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195584
公開番号（公開出願番号）：特開平6-043311
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】【目的】容易に深さ方向の加工精度を確保でき、光の利用率の高い、回折光学素子の製造方法を提供する。【構成】複数の物質から構成された、所定の波長の光に対し屈折率がほぼ等しい多層膜を有する基板を用い、上から順に一番表層にでている物質を高速にエッチングするがその下の層の物質のエッチング速度がきわめて遅く、方向性と選択性を持つエッチング方法で所定の部分の多層膜を除去加工する。

請求項（抜粋）：