特許

J-GLOBAL ID：200903005616679977

超純水製造装置

発明者： 日高 真生 ,  田中 順
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-319898
公開番号（公開出願番号）：特開平10-202296
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】【課題】 半導体産業におけるシリコンウエハの洗浄等に用いられる超純水の製造装置において、有機物を含む被処理水中の有機物除去を行う経路(例えば回収系や二次純水系)における有機物除去の効率化を図る。【解決手段】 有機物を含有する被処理水を通水する逆浸透膜装置42と、逆浸透膜装置42の透過水にアルカリ性条件下でオゾンを添加することによりこの透過水中に含まれる有機物を酸化分解する有機物酸化装置44とを具備する超純水製造装置とする。有機物酸化装置44では、気液撹拌混合手段によって被処理水にオゾンを添加すること、被処理水のpHが9.7以上のアルカリ性条件下で被処理水にオゾンを添加すること、被処理水に対するオゾン添加量が3〜40ppmとなるように被処理水にオゾンを添加することが好ましい。また、逆浸透膜装置42の上流側又は逆浸透膜装置42と有機物酸化装置44との間に、あるいは逆浸透膜装置42に代えて、OH形の陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装置40を設けることができる。

請求項（抜粋）：

有機物を含有する被処理水を通水する逆浸透膜装置と、前記逆浸透膜装置の透過水にアルカリ性条件下でオゾンを添加することにより該透過水中に含まれる有機物を酸化分解する有機物酸化装置とを具備することを特徴とする超純水製造装置。

IPC (9件)：

C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/78

FI (10件)：

C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/58 H ,  C02F 1/78

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 超純水の製造装置、製造方法及び製造装置の制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-341110   出願人：三菱電機株式会社
• 水処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-211471   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社