特許
J-GLOBAL ID：200903005619201296
通過式スパッタリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-103585
公開番号（公開出願番号）：特開平8-296043
出願日： 1995年04月27日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：
【要約】【目的】 表面に微細な凹凸が形成された基材の微細凹凸の中まで良好に膜が形成し得るスパッタリング装置を提供する。【構成】 スパッタ面を基材に対して傾斜させたターゲットを設けたもの。
請求項（抜粋）：
ターゲットの前方を基材を通過させることによりターゲットから発生させた成膜用ガス状体を基材に堆積させて膜を形成させる通過式スパッタリング成膜装置において、スパッタ面を基材に対して傾斜させた傾斜ターゲットを設けたことを特徴とする通過式スパッタリング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/56 H
, C23C 14/34 C
