特許
J-GLOBAL ID:200903005620171406

有機性汚水の高度浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-250456
公開番号(公開出願番号):特開平6-071284
出願日: 1992年08月27日
公開日(公表日): 1994年03月15日
要約:
【要約】【目的】 前段に初沈を設けず、BOD、SS、脱窒素、CODを高度に除去でき、従来の浄化処理装置によるより著しく清澄な処理水が得られ、かつ処理水を消費することなく洗浄できる単一槽の浄化処理装置を開発すること。【構成】 浄化槽に浸漬した、微生物付着活性炭を充填した充填層Aを設置し、該充填層Aの支持床の下部に粒状物ろ材を充填した充填層Bを設け、さらにその下部に多孔性通水部材を介して粒状物ろ材を充填した充填層Cを設置し、充填層Cの下部から原水を供給して上向流流で通水し、少なくとも充填層Cの下部に酸素含有ガスの散気部を配置し、充填層Aの上部に処理水流出部を設けた高度浄化装置。
請求項(抜粋):
浄化装置の水面下に浸漬して、微生物を付着した活性炭を充填した充填層Aを設置し、該充填層Aの支持床の下部に粒状物ろ材を充填した充填層Bを設け、該充填層Bの下部に多孔性通水部材を介して粒状物ろ材を充填した充填層Cを設置し、該充填層Cの下部に原水供給部を配備し、少なくとも充填層Cの下部に酸素含有ガスの散気部を配置し、前記活性炭充填層Aの上部に処理水流出部を設けたことを特徴とする有機性汚水の高度浄化装置。
IPC (2件):
C02F 3/06 ,  C02F 3/10
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平4-066193

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