フォトレジスト、フォトレジスト副生成物及びエッチング残渣を除去するのに好適な組成物、並びに、その使用

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安富康男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-533352
公開番号（公開出願番号）：特表2007-531902
出願日： 2004年05月24日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

特定のアミン及び/又は四級アンモニウム化合物、ヒドロキシルアミン、腐食防止剤、有機希釈剤、及び、必要に応じて水を含んでいる組成物であって、フォトレジスト、フォトレジスト副生成物及び残渣、並びに基板由来のエッチング残渣を除去することができる組成物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

a)約25重量%〜75重量%の、式:NR1R2R3 (式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、H、脂肪族基、エーテル基、アミノ基及びアリール基、並びに、N、O及びSからなる群から選択される少なくとも1つのヘテロ原子を環内にさらに含んでいてもよいN原子含有複素環基からなる群から選択される基である。)によって表わされる少なくとも1つのアミンか、又は、式:[NR4R5R6R7]-OH (式中、R4、R5、R6及びR7は、それぞれ独立に、アルキル基である) によって表わされる少なくとも1つの四級アンモニウム化合物と、 b)約10〜約25重量%のヒドロキシルアミンと、 c)約0〜約32重量%の有機希釈剤と d)約10〜約30重量%の水と e)約1〜約25重量%の腐食防止剤とを含み、pH値が7より大きい組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/42 , H01L 21/027 , H01L 21/304

FI (3件)：

G03F7/42 , H01L21/30 572 , H01L21/304 647A

Fターム (6件)：

2H096AA25 , 2H096BA01 , 2H096BA09 , 2H096JA04 , 2H096LA03 , 5F046MA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

レジスト用剥離液組成物およびこれを用いたレジスト剥離方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-225577 出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (7件)

レジスト用剥離液組成物およびこれを用いたレジスト剥離方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-225577 出願人：東京応化工業株式会社
レジスト用剥離液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-276504 出願人：東京応化工業株式会社
還元及び酸化電位を有する求核アミン化合物を含む洗浄剤組成物およびこれを使用した基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-237904 出願人：イー.ケー.シー.テクノロジー.インコーポレイテッド

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引用文献：

審査官引用 (3件)

化学大辞典(縮刷版), 19630825, 第2巻, 689-690
化学大辞典, 19891020, 69
化学大辞典(縮刷版), 19630701, 第1巻, 248

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