特許

J-GLOBAL ID：200903005635619764

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： 中野 泰 ,  金子 寿輝 ,  西邑 雄一 ,  内田 盛男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-024103
公開番号（公開出願番号）：特開平11-221532
出願日： 1998年02月05日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】大型基板の洗浄工程、特にスピン洗浄工程における静電気の発生量をほぼ零近くまで低減し、金属配線の溶解等の静電気に起因する歩留り低下を防止する。【解決手段】高速で回転する回転支持台102に支持されたガラス基板101上に、超純水に金属元素を含まないアンモニウム塩を溶解した洗浄水を放水して基板101を洗浄する。

請求項（抜粋）：

基板を洗浄する基板洗浄方法において、基板の洗浄液として、超純水に金属元素を含まない塩を溶解した洗浄水を用いて基板を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B 3/08 ,  C11D 7/04 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647

FI (4件)：

B08B 3/08 A ,  C11D 7/04 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 Z