特許

J-GLOBAL ID：200903005642359611

ビスマス系膜形成材料、及びビスマス系膜の成膜方法

発明者： 町田 英明
出願人/特許権者： 株式会社トリケミカル研究所
代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-138104
公開番号（公開出願番号）：特開平11-199233
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 安定で、取扱い易く、そして気相化が容易で、かつ、分解温度が高くなく、成膜効率が高いビスマス系膜形成材料及び成膜方法の提供。【解決手段】 トリアルキルビスマスとトルエン等トリアルキルビスマスに対して不活性な溶媒とを含むビスマス系膜形成材料及びこれを用いた成膜方法。トリアルキルビスマスを溶媒で希釈することにより爆発などの危険性を小さくすることができる。

請求項（抜粋）：

トリアルキルビスマスと溶媒とを含むことを特徴とするビスマス系膜形成材料。

IPC (7件)：

C01G 29/00 ZAA ,  C01G 1/00 ,  C03C 17/245 ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/40 ,  H01B 3/00 ,  H01L 39/24

FI (7件)：

C01G 29/00 ZAA ,  C01G 1/00 S ,  C03C 17/245 Z ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/40 ,  H01B 3/00 F ,  H01L 39/24 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-182279