特許

J-GLOBAL ID：200903005642716309

接触水素添加方法

発明者： ファビエンヌ ル ペルチエ ,  ブレーズ ディディローン ,  パトリック サラザン ,  ジャン ポール ボワチオー
出願人/特許権者： アンスティテュ フランセ デュ ペトロール
代理人 (1件)： 岸本 瑛之助 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-094170
公開番号（公開出願番号）：特開平7-002702
出願日： 1994年05月06日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】【構成】 本発明は、担体と、VIII族金属と、ゲルマニウム、錫、鉛、ガリウム、インジウム、チタン、鉄、モリブデン、タングステン、レニウムおよびタリウムから選ばれる付加金属Mとを含む触媒の存在下での不飽和炭化水素仕込物の水素添加方法に関し、触媒は、反応器内または前記反応器と直接接触している予備反応器内の現場で、希釈された金属Mの有機化合物の含浸により調製される。この反応器内では、炭化水素仕込物がその後で処理される。本発明において触媒は、ハロゲンまたは酸素-硫黄族の元素をも含んでいてもよい。【効果】 アセチレン系化合物、ジオレフィン化合物、芳香族化合物等の不飽和炭化水素を選択的に、かつ効率良く還元することができる。

請求項（抜粋）：

少なくとも一つの担体と、少なくとも一つのVIII族の金属と、ゲルマニウム、錫、鉛、ガリウム、チタン、鉄、モリブデン、タングステン、レニウムおよびタリウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの付加金属Mとを含む触媒の存在下での不飽和炭化水素仕込物の水素添加方法であって、触媒は、少なくとも一つの担体と少なくとも一つのVIII族の金属とを含むカ焼され活性化された予備触媒と呼ばれる触媒物質から形成され、この触媒物質中に、少なくとも一つの付加金属Mの少なくとも一つの有機化合物が、純粋なまままたは希釈されて、現場で(in-situ) 、前記触媒の存在下に仕込物の処理が行われる反応帯域において、または、反応帯域と直接接触している予備反応帯域において導入される、水素添加方法。

IPC (14件)：

C07C 11/02 ,  B01J 23/40 ,  B01J 23/62 ,  B01J 23/652 ,  B01J 23/656 ,  B01J 23/89 ,  B01J 27/043 ,  B01J 27/135 ,  C07C 5/02 ,  C07C 5/10 ,  C07C 7/163 ,  C07C 11/167 ,  C07C 13/18 ,  C07B 61/00 300

FI (2件)：

B01J 23/64 103 X ,  B01J 23/64 104 X

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-142850
  
• 特開昭58-210852
  
• 特開昭63-224737
  
• 特公昭45-013803